Equipment
Provide microfluidic sampling instruments such as constant pressure pumps, peristaltic pumps and syringe pumps, as well as SU8 mold processing equipment, PDMS chip processing equipment and glass chip processing equipment.
SVS光阻显影机
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SVS匀胶机
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等离子清洗机
用于将聚二甲基硅氧烷（PDMS）与自身或者其他材料（如玻璃、硅片）紧密粘合形成微通道。 规格参数： •腔体材质：石英 •供电电源：AC220V •工作电流：整机工作电流不大于1.2A（不含真空泵） •射频电源功率：0-200W可调 •射频频率：20.0MHz（偏移量小于0.2KHz） •特性阻抗：50欧姆，自动匹配 •真空度：10pa-30Pa •气体路数：双路气体输入 •气体流量：10~160ml/min(可调) •过程控制：PLC人机自动与手动方式 •清洗时间：1-6000秒钟可调 •功率大小：10%-100%可调 •内腔尺寸：直径150mm×270mm •外形尺寸：600mmx500x4…
PDMS打孔器
PDMS芯片专用打孔设备。 规格参数： •打孔深度：0-20.0mm •针管内径：0.41-9.0mm
芯片对准平台
适合上下层都有结构的PDMS/PDMS，PDMS/玻璃，PDMS/硅芯片键合。 规格参数： •设备型号：DZ-100 •对准精度：±2um •总放大倍数：20~200X连续变倍 •主物镜倍数：0.7~4.5X连续变倍 •目镜倍数：0.5X •升降范围：270mm •中心范围：150mm •调焦范围：65mm •显示屏：13.3寸高清显示屏 •输出分辨率：HDMI1920x1080P •芯片尺寸：1/2.8” •支持功能：实时显示、拍照、录制、测量等
Hotplate
为SU8模具提供充分的烘烤，从而提升SU8模具结构的耐久性和机械性能。 规格参数： 温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm
Photolithography Machine/Exposure System
The photolithography machine is widely used in the preparation of microfluidic chips, MEMS devices, optoelectronic devices and surface acoustic wave devices. Its performance is especially suitable for universities, research institutes and enterprises to carry out microfabrication process research.
PBESR-PRO-500
High-Speed Programmable Pulse Signal Generator PulseBlasterESR-PRO™ is a high-speed intelligent pulse/pattern/delay generator designed to output precisely timed TTL patterns.
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