镀膜在真空条件下,采用物理轰击或者化学反应的方法将材料(俗称靶材或膜料)沉积在整个基材表面的一种技术。
SiNx,片内均匀性:<±5%
SiO₂,SiNx,a-Si(B,P,Ge掺杂)
SiO₂,SiNx,SiC(低温、低应力镀膜)
Al2O3、HfO2、AlN
SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3
Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb
Ti,Al,Ni,Ag,Cr,Sn,Pt,AuGe
Sn,AuSn,Ag,Au
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