SVS光阻显影机

光阻显影机是微电子制造和微纳加工过程中用于显影光刻胶图形的重要设备，属于光刻工艺中的一个关键步骤。其主要作用是将经过曝光后的光刻胶进行显影处理，显现出所需的微图形结构，为后续刻蚀或沉积等工艺做准备。

规格参数：

•1. 计时可控抖动系统

•振动模式：机械式高频微振动（频率可调范围50-200Hz，振幅±0.5mm）。

•控制精度：PLC编程控制，抖动时间设定0.1-999s，误差±0.5%。

•作用：减少显影液表面滞留气泡，提升基材表面反应均匀性。

•2. 批量显影高产能设计

•槽体容量：单槽有效容积30L（可同时处理6片8英寸晶圆或20块PCB板）。

•吞吐量：双槽交替作业，产能提升40%（理论最大产能120片/小时）。

•材质：PP/PVDF耐腐蚀槽体，带恒温夹层（温控范围20-40℃±0.5℃）。

•3. 自动换液与计数控制

•换液系统：

•流量控制：蠕动泵换液，速度1-10L/min可调。

•液位传感：高精度光电传感器，自动触发废液排放与新液补充。

•计数功能：内置芯片记录显影循环次数，达到设定值（如100次）自动报警提示换液。

•换液时间：全自动换液≤3分钟/槽。

•4. 多槽工控集成

•控制系统：工业级触摸屏+HMI界面，支持双槽独立/联动控制。

•通信协议：支持RS485/以太网，可接入MES系统。

•安全防护：漏液检测+急停按钮，符合SEMI S2标准。